全芯智造取得用于光源掩模优化的专利，提高了 SMO 的处理效率

2024 年 8 月 21 日消息，天眼查知识产权信息显示，全芯智造技术有限公司取得一项名为“用于光源掩模优化的方法、设备和介质“，授权公告号 CN118092068B，申请日期为 2024 年 4 月。

专利摘要显示，根据本公开的示例实施例提供了用于光源掩模优化的方法、设备和介质。该方法包括：获取包括多个掩模图形的掩模版图和光源的信息；通过光刻仿真，生成利用掩模版图和光源在晶圆上形成的多个晶圆图形，多个晶圆图形分别对应于多个掩模图形；确定与多个晶圆图形的形成相关联的成像成本；以及基于成像成本，通过改变多个掩模图形中的至少一个掩模图形的目标尺寸，确定光源的目标照明模式和掩模版图。以此方式，无需对目标尺寸进行人工调整，提高了 SMO 的处理效率。